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Colección

Uno de los 406 paneles de techo (23 3/4 × 23 3/4 pulgadas cada uno) Cubierto en la parte posterior con papel rayado (verde y blanco) Cada raya mide 8,7 cm.
De "Frost and Defrost: A Work In Situ By Daniel Buren".
Galería del Instituto de Arte Otis, 2401 Wilshire Boulevard, Los Ángeles, California
Del 28 de enero al 4 de marzo de 1979
Hal Glicksman, director de la galería;
Christopher D'Arcangelo, asistente de Daniel Buren
Fotografía de Douglas M. Parker Studio, Glendale, California, 4 de mayo de 2006

Christopher Williams
2006

Más de Christopher Williams

Christopher Williams

K-Line [Línea K]
Spray mate de atenuación
Libre de CFC
Aplicaciones
- Fotográfico
- Película
- Estudio de TV
Elimina los reflejos deslumbrantes de las superficies pulidas de la cámara
Trabajo.
Cubre uniformemente con un patrón de pulverización muy fino, que se opaca eficazmente
cualquier objeto pulido para ser fotografiado.
Dirección
Agite bien la lata y, mientras rocía, no sostenga más de
A 30 cm (12 pulgadas) del objeto. El rocío se fija aproximadamente
2 minutos, y se pueden agregar más capas si es necesario. Eso
se limpia fácilmente con un paño suave y todas las manchas se pueden
retirado con un poco de espíritu.
El aerosol K-Line es seguro con la mayoría de los materiales, pero una prueba debe
sobre una superficie de desecho en caso de duda, especialmente con algunos
tipos de plásticos.
Cautela
Recipiente presurizado.
Proteger de la luz solar y no exponer a temperaturas
superior a 50º C.
No perfore ni queme incluso después de su uso.
No rocíe sobre una llama desnuda ni sobre ningún material incandescente.
Manténgase alejado de fuentes de ignición - No fumar.
Mantener fuera del alcance de los niños.
No respire aerosol.
Evite el contacto con los ojos.
Úselo solo en áreas ventiladas.
Conservar a una temperatura mínima de 20º C
ONU 1950
Extremadamente inflamable
2827
S W Kenyon
Cranbrook - Kent, Reino Unido
División de la empresa de suministros fotográficos K-Line
Teléfono: 01580 850770
Hecho en Gran Bretaña
Registrado en la Oficina de Patentes y Marcas de EE. UU.
Studio Rhein Verlag, Düsseldorf
24, 2014 y 2014 de agosto